国产首台商用电子束光刻机羲之开启应用测试，助力量子芯片技术突破

近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传来好消息：我国首台国产商用电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段。该设备的加工精度达到国际主流水平，意味着我国在量子芯片制造关键技术领域实现了重要突破。

据了解，这款100kV电子束光刻机是在浙江省重点实验室平台基础上研发而成，目前已正式面向市场推出。研发团队表示，“羲之”专为量子芯片和新型半导体器件的研发需求设计，通过高能电子束在硅片上直接“绘制”电路，最小线宽可达8纳米，定位精度为0.6纳米。该技术无需使用传统光刻所需的掩膜版，具备高度灵活性，适用于芯片研发初期的多次调整与优化。

由于此类高端设备长期受到国际出口限制，国内多家重点科研单位在设备获取方面曾面临较大困难。此次国产电子束光刻机的成功推出，有望显著改善这一局面。同时，该设备的市场定价低于国际同类产品，已引起多家企业和研究机构的关注，并展开合作接洽。