佳能时隔 21 年开设新光刻机工厂，狠抓非先进机台需求

8 月 5 日消息，综合《日本经济新闻》《日刊工业新闻》两家日媒报道，佳能在当地时间 7 月 30 日为一家位于栃木县宇都宫市的半导体光刻设备工厂举行开业仪式，这也是佳能时隔 21 年开设的首家新光刻机厂。

佳能宇都宫工厂总建筑面积为 67518 平方米，总投资额约 500 亿日元（注：现汇率约合 24.37 亿元人民币），投产后佳能的光刻设备产能将相较 2021 年翻倍。该工厂将于今年 9 月启动最初生产，明后年补充镜头加工制造能力。

佳能宇都宫工厂不制造 EUV、ArF_(i) 等较为先进的光刻设备，而是聚焦 i 线、KrF 等成熟光源平台。AI 兴起带来的后端先进封装需求日益攀升，而这正是传统光刻机的用武之地。此外，宇都宫工厂也将制造 NIL 纳米压印图案化系统。